제조 공정에서는, 스트립 챔버가 목표 온도에 도달할 때까지는 아무런 작동도 하지 않습니다. 만약 서포트 히터의 온도가 일정하지 않으면, 잔여물이 남게 되고, 그로 인해 다음 코팅 작업 시 코팅층이 제대로 붙지 않습니다. 따라서 반복적인 가열 과정에서도 일정한 온도를 유지할 수 있는 열 제어 시스템이 필요합니다.
실제로 중요한 요소들 우리는 단파 적외선(SWIR) 석영 방출기를 활용하여 포토레지스트 제거용 서포트 히터를 만들었습니다. 이 방출기들은 빠르게 반응하기 때문에, 온도를 정확하게 조절할 수 있습니다. 이 장치는 웨이퍼 전체에 걸쳐 ±0.1°C 정도의 일관된 온도를 유지해주므로, 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서도 규격을 준수할 수 있습니다. 이 장치는 클린룸 등급 1–100에서도 작동 가능하며, 현장에서는 입자 발생이 전혀 없는지 확인할 수 있습니다. 실제 사용 환경에서는 24/7 연속 작동이 가능하며, 5,000시간 이상 작동해도 성능 저하가 5% 미만입니다. 입력 전압은 208–240V이며, 공간 효율이 높아 기존 설비에도 쉽게 설치할 수 있습니다. 또한 표준적인 석영-챔버 인터페이스도 갖추고 있습니다.
왜 이것이 중요한가? 포토레지스트 제거 과정은 본질적으로 열에 의해 이루어집니다. 히터가 빠르게 안정화되면, 스트립 처리 사이의 대기 시간이 줄어들고, 부적절하게 가열된 웨이퍼들을 폐기할 필요도 없어집니다. 일관된 온도 유지는 리소그래피 공정 후에도 정밀한 치수 제어를 가능하게 해주며, 반복적인 스트립 처리가 가능해져 화학 물질 사용량도 줄어듭니다. 그 결과, 처리 시간이 단축되고, 재작업도 줄어들며, 더 적은 에너지만으로도 작업이 가능해집니다.
설치 시 주의해야 할 사항 챔버의 플랜지가 잘 맞는지, 그리고 방출기의 위치가 웨이퍼 경로에 대해 정확하게 맞는지 확인해야 합니다. SWIR 방출기는 빠르게 가열되지만, 고온 구역을 적절히 보호해야 폴리머 씰이 손상되는 것을 방지할 수 있습니다. 또한, 공정을 변경할 때는 짧은 시간 동안의 교정이 필요하며, 클린룸 환경과의 호환성도 반드시 확인해야 합니다. 우리는 사전에 인터페이스 관련 도면을 제공함으로써 통합 과정에서의 위험을 최소화합니다.