Di dalam bilik pemprosesan tersebut, alat penghangat yang digunakan untuk melarutkan bahan photoresist akan berada dalam keadaan tidak aktif sehingga suhu mencapai tahap yang ditetapkan. Jika pemanas tersebut tidak berfungsi dengan baik, sisa bahan akan tertinggal, dan lapisan baru yang diletakkan tidak akan melekat dengan baik. Oleh itu, perlu ada kawalan suhu yang efektif agar suhu tetap stabil, dari satu proses ke proses yang lain.
Apa yang sebenarnya penting di belakang tabir
Kami menggunakan pemanas jenis SWIR untuk membantu proses pelarutan bahan photoresist. Pemanas ini bertindak dengan cepat, sehingga memungkinkan kita mengawal suhu dengan lebih baik. Kadar keseragaman suhu pada permukaan wafer adalah ±0.1°C, agar proses pemprosesan dapat berjalan secara konsisten. Alat ini boleh digunakan dalam ruang bersih kelas 1–100, dan kami memastikan tiada zarah terbentuk melalui pemantauan secara langsung. Dalam operasi harian, alat ini dapat berfungsi 24/7, dengan masa operasi melebihi 5,000 jam, dan kadar penyimpangan suhu kurang dari 5%. Spesifikasi alat ini termasuk voltan masukan 208–240 V, saiz yang kompak yang sesuai untuk penggunaan semula, serta antaramuka standard antara quartz dan bilik pemprosesan.
Mengapa ini penting dalam proses pemprosesan
Proses pelarutan bahan photoresist memerlukan kawalan suhu yang tepat. Apabila pemanas berfungsi dengan baik, masa yang dibazirkan antara setiap proses pemprosesan dapat dikurangkan, dan wafer yang tidak diproses dengan sempurna dapat dielakkan. Keseragaman suhu yang tinggi memastikan kualiti proses pemprosesan tetap konsisten setelah proses litografi. Ini juga membolehkan penggunaan bahan kimia yang lebih sedikit. Kelebihannya adalah masa proses yang dapat diramalkan, pengurangan jumlah kerja ulang, serta penjimatan tenaga akibat waktu pemanasan yang lebih singkat.
Apa yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Pastikan bahawa flange bilik pemprosesan sesuai, dan panduan pemanas berada pada posisi yang tepat berbanding dengan laluan wafer. Pemanas SWIR berfungsi dengan cepat, tetapi kawasan panas tersebut perlu dilindungi dengan baik agar plastik penutup tidak rosak. Apabila menukar formula bahan kimia yang digunakan, lakukan kalibrasi sebentar terlebih dahulu, dan pastikan keserasian bilik bersih dengan kaedah pengiraan zarah yang digunakan. Kami akan menghantar gambaran antaramuka terlebih dahulu agar risiko integrasi dapat dielakkan.