Di ruang pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C dalam proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada permukaan wafer sebanyak beberapa nanometer. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu boleh merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Pemanas jenis CSP perlu menghasilkan haba yang konsisten, bersih, dan dengan kelajuan yang mencukupi untuk memenuhi keperluan proses pengeluaran. Kami telah mereka pemanas inframerah berdasarkan prinsip-prinsip ini.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan sumber inframerah gelombang pendek yang mampu menghasilkan haba dengan cepat. Dengan cara ini, suhu dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, dan sistem kawalan berulang dapat berfungsi dengan efektif. Perbezaan suhu pada permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, sekali gus memastikan proses pembakaran berjalan dalam lingkungan yang ditetapkan oleh teknologi litografi. Penempatan elemen pemanas dilakukan sedemikian rupa agar haba disalurkan secara seragam ke seluruh permukaan wafer. Permukaan bilik pula perlu disejukkan agar pengendapan zarah-zarah tertentu dapat dikurangkan. Reka bentuk pemanas ini juga disesuaikan agar sesuai dengan standard bilik bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, permukaannya mudah dibersihkan, dan aliran udara serta sistem penutupan dibuat sedemikian rupa agar jumlah zarah yang terhasil diminimumkan.
Mengapa ia berkesan dalam praktik:
Untuk proses pengeringan wafer, pemanas inframerah membantu proses penyejatan pelarut dengan cepat dan seragam, sekaligus memendekkan masa yang diperlukan untuk proses pengeringan tanpa perlu membakar wafer. Dalam proses pra-pembakaran dan pengerasan bahan fotorezist, haba yang dihasilkan secara cepat dan seragam ini membolehkan kawalan suhu yang lebih baik, serta mengurangkan keperluan untuk melakukan proses ulangan. Hasilnya, dimensi kritikal wafer menjadi lebih konsisten, kecacatan berkurangan, dan kapasiti pengeluaran meningkat. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana pemanas hanya menghasilkan haba apabila diperlukan sahaja. Kebolehpercayaan pemanas ini dapat dinilai melalui prestasinya yang stabil dalam jangka masa panjang, serta masa penyelenggaraan yang dapat diramalkan.
Hal-hal yang perlu diketahui:
Pemanas ini memang mudah disambungkan, tetapi penyesuaian kedudukan pemanas terhadap laluan wafer serta strategi pengudaraan sangat penting. Proses pemasangan pemanas ini cepat, tetapi anda perlu menyesuaikan kuasa lampu, kadar emisi haba, dan maklum balas suhu agar sesuai dengan proses pengeluaran yang digunakan. Jika pemanas beroperasi pada tahap kuasa maksimum secara berterusan, hayatnya akan berkurangan. Oleh itu, reka bentuk kitaran operasi dan perubahan suhu perlu disesuaikan agar sesuai dengan proses pengeluaran. Pastikan voltan dan spesifikasi soket pemanas sesuai dengan platform yang digunakan, dan pastikan sistem pengesanan dan keserasian antara komponen-komponen berfungsi dengan baik sebelum menggunakannya dalam proses pengeluaran.