Stop met het verspillen van warmte: een betere manier om wafers te drogen
Hier ligt het probleem met standaard IR-lampen: ze stralen warmte in alle richtingen uit. Het is een straling van 360 graden.
Wanneer je wafers droogt, is elke vorm van energie die de wafer niet bereikt, in feite gewoon geldverspilling. Maar het wordt nog erger: deze overtollige warmte begint de binnenkant van je apparaat te verhitten. Hierdoor wordt het apparaat gevaarlijk om aan te raken en kan het frame van het apparaat zelfs vervormen door thermische uitzetting. Dat is zeker niet ideaal.
De warmte op de juiste plek brengen
We lossen dit op door een hoogreflecterende parabolische of elliptische reflector toe te voegen aan de lamp.
Stel je het voor als een zaklamp: in plaats van dat de IR-golven overal naartoe gaan, vangt de reflector alles op wat in de verkeerde richting gaat en kaatst deze terug naar de wafer. Hierdoor krijg je een veel preciezer en meer gefocust bundeltje warmte.
Het “oven-effect” stoppen
Als je geen reflector hebt, wordt het chassi van je apparaat in feite een enorme warmtekraam.
Als de wanden van je apparaat ontzettend heet worden, kun je niets meer doen tegen de hitte. Door gebruik te maken van gepolijst aluminium of goudgecoate reflectoren, houden we de energie geconcentreerd in de droogzone. Je apparaat blijft koeler en de energie gaat precies waar het moet zijn.
De nadelen
Het is natuurlijk niet allemaal magisch. Er zijn een paar dingen om rekening mee te houden.
In de eerste plaats nemen deze reflectoren meer ruimte in beslag. Je moet controleren of de afmetingen van je apparaat voldoende zijn.
Bovendien zijn ze gevoelig voor vuil. Als er deeltjes in de buurt van de reflector terechtkomen, neemt de warmtedichtheid af. Je kunt ze niet zomaar weglaten – je hebt een onderhoudsplan nodig om ze schoon te maken of te vervangen, zodat de droogtijd niet verandert.
Het goede nieuws? Deze apparaten kunnen direct worden aangesloten op je huidige IR-besturingssystemen. Zodra ze zijn geïnstalleerd, blijft het buitenoppervlak van je apparaat koel en kunnen je wafers sneller op de juiste temperatuur komen.