Mengurangkan penggunaan karbon di bilik bersih: Mengapa pemanasan menggunakan cahaya inframerah yang tahan air berkesan
Mari kita jujur tentang proses pembersihan wafer dalam industri semikonduktor. Proses ini memerlukan banyak tenaga. Untuk waktu yang lama, kita terpaksa menerima fakta bahawa cara untuk mengeringkan wafer adalah dengan memanaskan udara dalam kuantiti yang banyak. Namun, itu merupakan pembaziran tenaga yang besar hanya untuk menghilangkan sedikit air dari permukaan wafer.
Kami telah menemukan cara yang lebih baik: penggunaan lampu inframerah yang tahan air.
Hentikan pemanasan udara
Lampu inframerah tidak memerlukan udara di dalam bilik untuk dipanaskan. Sebaliknya, ia akan menghantar tenaga secara langsung ke permukaan wafer. Ini merupakan cara yang lebih efisien. Anda tidak perlu menggunakan banyak tenaga untuk memanaskan seluruh bilik; cukup panaskan sahaja permukaan wafer tersebut. Dengan cara ini, penggunaan tenaga dapat dikurangkan. Jika anda ingin membina “kilang hijau”, ini merupakan salah satu cara termudah untuk mengurangkan jejak karbon.
Dibuat untuk lingkungan yang basah
Biasanya, penggunaan lampu berkuasa tinggi dalam proses pembersihan wafer boleh menyebabkan masalah. Kelembapan yang tinggi dan percikan cecair boleh merosakkan lampu tersebut. Kami telah mengatasi masalah ini dengan menggunakan lapisan pelindung khas yang tahan air. Ini akan melindungi elektrod lampu daripada cecair. Dengan cara ini, lampu masih boleh berfungsi walaupun berada dalam persekitaran yang basah.
Kompromi yang perlu diambil
Saya tidak akan katakan bahawa ini merupakan penyelesaian ajaib. Penggunaan lampu inframerah berintensiti tinggi memerlukan sistem penyejukan yang lebih baik. Kerana haba yang dihasilkan sangat tinggi, wafer akan kering dengan cepat. Namun, haba yang terlalu tinggi boleh merosakkan sensor atau komponen plastik di sekitarnya. Anda perlu meningkatkan kuasa kipas penyejuk agar suhu di sekitar tetap terkawal. Ini merupakan perubahan kecil, tetapi penting.
Hasilnya
Proses pembersihan wafer menjadi lebih cepat. Dengan cara ini, lebih banyak wafer dapat diproses dalam masa yang singkat. Penggunaan tenaga juga berkurangan. Inilah cara untuk mengurangkan jejak karbon per wafer. Cukup sambungkan lampu tersebut kepada pengawal suhu PID agar suhu tetap terkawal. Mudah saja.