Di dalam ruang produksi, alat penghilang lapisan fotoresist tersebut berada dalam keadaan tidak aktif, sampai suhu yang diinginkan tercapai. Jika pemanas pendukungnya tidak berfungsi dengan baik, akan tetap ada sisa-sisa zat yang tertinggal, sehingga lapisan baru tidak dapat menempel dengan baik. Diperlukan sistem kontrol suhu yang mampu mempertahankan suhu yang diinginkan, dari proses pembakaran yang satu ke proses pembakaran berikutnya, dan dari satu batch ke batch lainnya.
Apa yang sebenarnya penting di balik semua ini? Kami merancang pemanas pendukung untuk menghilangkan lapisan fotoresist menggunakan emitor inframerah gelombang pendek (SWIR). Emitor ini bereaksi cepat, sehingga memungkinkan kita untuk mengontrol suhu secara tepat. Alat ini mampu menjaga keseragaman suhu hingga ±0,1°C pada tingkat wafer, sehingga proses pembakaran tetap berjalan sesuai spesifikasi di seluruh area produksi. Alat ini beroperasi dalam ruang bersih kelas 1–100, dan kami memastikan bahwa tidak ada partikel yang dihasilkan, melalui pemantauan yang dilakukan secara real-time. Di lapangan, alat ini dapat beroperasi 24/7, dengan umur pakai lebih dari 5.000 jam, dan penyimpangan suhu kurang dari 5%. Spesifikasinya mencakup tegangan masukan 208–240 V, ukuran yang kompak sehingga cocok digunakan untuk modifikasi peralatan yang sudah ada, serta antarmuka standar antara石英 emitter dan chamber.
Mengapa hal ini penting dalam proses produksi? Proses penghilangan lapisan fotoresist pada dasarnya merupakan proses termal. Ketika pemanas dapat bekerja dengan cepat, waktu tunggu antara setiap proses penghilangan lapisan menjadi lebih singkat, sehingga tidak perlu membuang wafer yang tidak matang atau terlalu matang. Keseragaman suhu yang tinggi membantu menjaga kualitas dimensi wafer setelah proses litografi, sehingga hasilnya lebih konsisten. Hal ini juga mengurangi penggunaan bahan kimia. Manfaatnya adalah waktu siklus yang lebih pendek, pengurangan jumlah produk yang harus diperbaiki, serta penghematan energi akibat waktu pemanasan yang lebih singkat.
Apa yang perlu diperhatikan saat pemasangan? Pastikan flange chamber cocok, dan posisi emitter tepat relatif terhadap jalur wafer. Emiter SWIR memanaskan dengan cepat, tetapi zona panas tersebut perlu dilindungi agar lapisan polimer tidak rusak. Saat mengganti resep produksi, lakukan kalibrasi singkat terlebih dahulu, dan pastikan kompatibilitasnya dengan metode penghitungan partikel yang digunakan. Kami mengirimkan gambar-gambar antarmuka terlebih dahulu, agar risiko integrasi dapat dihindari.