Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,5°C dalam proses pemanasan dapat menyebabkan perubahan lebar garis pada permukaan wafer hingga beberapa nanometer. Selain itu, adanya partikel-partikel kecil dapat merusak sejumlah besar produk yang dihasilkan. Pemanas jenis CSP yang digunakan untuk memanaskan wafer harus mampu memberikan panas yang konsisten, bersih, dan cepat, sehingga dapat mengikuti ritme proses produksi. Kami merancang pemanas inframerah kami berdasarkan prinsip-prinsip tersebut.
Yang penting secara teknis: Kami menggunakan sumber inframerah berfrekuensi tinggi yang mampu menghasilkan panas dengan cepat. Dengan demikian, suhu wafer akan mencapai nilai yang diinginkan dalam waktu sub-detik, dan kontrol termal tetap akurat. Profil termal pada permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sehingga proses pemanasan berjalan sesuai dengan standar litografi. Emitter-emitter tersebut disusun sedemikian rupa agar panasnya tersebar secara merata ke seluruh permukaan wafer. Permukaan ruang pemanas juga dipastikan tetap dingin, sehingga proses deposisi berjalan lebih baik dan penghasilan partikel pun berkurang. Kompatibilitas dengan lingkungan cleanroom kelas 1–100 juga terjamin; bahan-bahan yang digunakan memiliki emisi gas yang rendah, permukaannya mudah dibersihkan, dan aliran udara serta sistem penutupan ruangan dirancang sedemikian rupa agar jumlah partikel tetap rendah.
Mengapa cara ini efektif dalam praktiknya: Untuk proses pengeringan wafer, sinar inframerah membantu proses penguapan pelarut secara cepat dan merata, sehingga proses pengeringan berlangsung lebih singkat tanpa perlu memanaskan wafer terlalu lama. Dalam proses pemanasan awal dan pengerasan fotorezist, panas yang dihasilkan secara cepat dan merata membantu memperoleh kontrol profil termal yang lebih baik, sehingga meminimalkan kebutuhan untuk melakukan proses ulang. Akibatnya, dimensi kritis wafer menjadi lebih konsisten, cacatnya berkurang, dan kapasitas produksi meningkat. Penggunaan energi juga berkurang, karena pemanas hanya aktif ketika diperlukan saja. Keandalan pemanas diukur dari kemampuannya untuk bekerja secara stabil dalam jangka waktu yang lama, serta interval pemeliharaan yang dapat diprediksi, bukan dari aspek pemasaran.
Hal-hal yang perlu diketahui: Pemanas ini dapat diintegrasikan dengan baik, tetapi penyesuaian posisi pemanas terhadap jalur wafer serta strategi pengeluaran udara sangat penting. Proses instalasi pemanas relatif cepat, tetapi Anda perlu menyesuaikan daya lampu, emisivitas, dan mekanisme kontrol suhu sesuai dengan proses produksi yang digunakan. Jika pemanas digunakan terus-menerus pada setting maksimum, maka umur pakainya akan berkurang. Oleh karena itu, rencanakan siklus kerja dan penyesuaian suhu sesuai dengan urutan proses produksi. Pastikan juga bahwa tegangan dan spesifikasi koneksi pemanas sesuai dengan platform yang digunakan, serta pastikan kompatibilitas antara sensor dan sistem kontrol sebelum digunakan dalam proses produksi.