Verhitter voor het verwijderen van photoresist

Thu, 02 Jul 2026 08:05:38 +0800

Op de productielijn blijft de kamertje voor het verwijderen van de fotoresist stil tot deze de juiste temperatuur heeft bereikt. Als de ondersteunende heater niet goed werkt, blijven er restanten achter – en zal de volgende laag niet goed hechten. Er is dus thermische controle nodig om de gewenste temperatuur te behouden, elke keer opnieuw, bij elke batch.

Wat echt belangrijk is We hebben de heater voor het verwijderen van de fotoresist gemaakt met behulp van kwartze-emitters die kortegolflengte-infraroodstraling uitstralen. Deze emitters reageren snel, zodat je de temperatuur nauwkeurig kunt regelen. De uniformiteit op het niveau van de wafer is maar ±0,1°C, zodat de parameters voor het zachte en harde bakken consistent blijven. Het apparaat kan worden gebruikt in een schone ruimte van klasse 1–100. We controleren of er geen deeltjes worden geproduceerd, door middel van in-situ monitoring. In het veld kan het apparaat 24/7 worden gebruikt; de apparaten kunnen tot 5.000 uur lang werken zonder dat de prestaties minder worden dan 5%. De vereisten zijn een invoerstroom van 208–240 V, een compacte afmeting zodat het gemakkelijk kan worden geïntegreerd, en standaardinterfaces tussen het apparaat en de kamer.

Ondersteuning on Professional IR Heating Solutions

Verhitter voor het verwijderen van photoresist