Di lantai produksi, kualitas wafer biosensor sangat bergantung pada tingkat repetibilitas suhu yang digunakan dalam proses pembakaran bahan fotoresist. Perubahan suhu sebesar 30 m°C selama proses pembakaran dapat merusak kontrol ketebalan garis pada wafer, sedangkan adanya partikel dihasilkan dari proses pembakaran yang berlebihan dapat menghancurkan hasil produksi secara total. Kami membangun sistem lampu inframerah untuk menghilangkan faktor ketidakpastian tersebut.
Apa yang benar-benar penting
Kami menggunakan emiter cahaya gelombang pendek jenis NIR bersama dengan optik kuarsa, sehingga panas dapat disalurkan langsung ke wafer—dengan cepat, efisien, dan tanpa efek samping. Dengan demikian, keseragaman suhu di permukaan wafer mencapai ±0,1°C di seluruh area aktifnya. Hal ini berarti bahwa proses pembakaran yang dilakukan akan memberikan hasil yang sama setiap kalinya. Alat ini dapat beroperasi 24/7 tanpa henti, dan tidak menghasilkan partikel apa pun—sehingga sepenuhnya sesuai dengan standar ruang bersih kelas 1–100.
Mengapa hal ini cocok untuk produksi biosensor
Dalam pembuatan biosensor, lapisan tipis dan struktur kecil perlu dibuat dengan hati-hati, karena struktur-struktur tersebut mudah rusak akibat tekanan tertentu. Fotoresist juga bisa meleleh jika proses pembakarannya tidak stabil. Lampu yang kami gunakan mampu menjaga suhu pembakaran dengan tingkat repetibilitas yang tinggi, sehingga proses litografi dan pengikisan berjalan secara konsisten. Variasi diameter garis menjadi lebih kecil, dan kekasaran tepi garis pun berkurang. Proses pemanasan yang cepat membantu mengurangi waktu produksi, tanpa mengorbankan kontrol kualitas. Efisiensi energi juga membantu menurunkan biaya per wafer. Hasilnya adalah tingginya tingkat keberhasilan produksi pada percobaan pertama, serta pengurangan jumlah produk yang perlu diperbaiki.
Apa yang perlu diperhatikan
Keluaran lampu sangat sensitif terhadap jarak antara emitor dan wafer, serta tingkat kebersihan jendela kuarsa. Oleh karena itu, alat ini membutuhkan jarak fokus yang tetap, serta pemeriksaan rutin untuk menjaga kondisinya. Proses integrasinya cukup sederhana, tetapi profil termalnya perlu disesuaikan dengan jenis fotoresist dan lapisan substrat yang digunakan. Lakukan uji coba singkat sebelum mulai produksi massal.