http://ir-heat-corp.com/he/tags/%D7%A4%D7%95%D7%98%D7%95%D7%A8%D7%96%D7%99%D7%A1%D7%98/ Recent content in פוטורזיסט on Professional IR Heating Solutions Hugo he Thu, 02 Jul 2026 08:05:38 +0800 http://ir-heat-corp.com/he/posts/photoresist-stripping-support-heater/ Thu, 02 Jul 2026 08:05:38 +0800 http://ir-heat-corp.com/he/posts/photoresist-stripping-support-heater/ <p><img src="http://ir-heat-corp.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="מחמם להסרת חומר הפוטורזיסט"></p> <p>על גבי משטח העיבוד, תא ההסרה של הפוטורזיסט נשאר ללא פעילות עד שהטמפרטורה בו מגיעה לרמה הרצויה. אם החימום לא יפעל כראוי, עלולים להישאר שאריות של חומר – ואז השכבה הבאה לא תידבק כראוי. יש צורך בשליטה תרמית טובה, כדי שהטמפרטורה תישמר ברמה הרצויה, בכל פעם שמבצעים עיבוד.</p> <p><strong>מה באמת חשוב מאחורי הקלעים</strong> יצרנו את מערכת החימום להסרת הפוטורזיסט על בסיס גלאי אינפרא-אדום בגלים קצרים. גלאים אלו מגיבים במהירות, ומאפשרים שליטה מדויקת בטמפרטורה. המערכת מאפשרת רמת אחידות של ±0.1°C, כך שהעיבוד יתבצע באופן אחיד בכל האזורים של הוופר. המערכת עובדת בחדרים נקיים מדרגה 1–100, ואנו מוודאים שאין יצירת חלקיקים באמצעות מעקב בזמן אמת. בשימוש היומיומי, המערכת עובדת 24/7, עם זמן עבודה של יותר מ-5,000 שעות, עם סטייה של פחות מ-5%. המערכת עובדת עם מתח של 208–240 וולט, והיא קומפקטית מספיק כדי להתאים לשימוש במערכות קיימות. כמו כן, יש לה אינטרפייסים סטנדרטיים לחיבור לתא העיבוד.</p> http://ir-heat-corp.com/he/posts/durable-photoresist-bake-heater/ Wed, 03 Jun 2026 12:09:07 +0800 http://ir-heat-corp.com/he/posts/durable-photoresist-bake-heater/ <p><img src="http://ir-heat-corp.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="מחמם אפיית פוטורזיסט עמיד"></p> <p>ברצפת הליתוגרפיה, אפיית ריכוך שסטייה של 0.2°C בלבד מספיקה כדי לגרום להטיית מימדים קריטיים ולהגברת מחוספסות קצוות הקווים — ובפתאומיות אתם מפסידים הרבה מוצרים. האפייה אינה רק חימום ראשוני. זוהי התקציב התרמי שמייצב את פרופיל הפוטורזיסט לפני החשיפה. זו המציאות שעבורה בנינו את גוף החימום לאפיית הפוטורזיסט: אחידות טמפרטורה וחזרות מדויקות שנוגעות לננומטרים, לא רק למעלות.</p> <p><strong>מה שחשוב באמת, מבחינה טכנית</strong><br> אנו שומרים על אחידות ברמת ה-wafer בתוך ±0.1°C על פני שטח האפייה, כך שפרופילי אפיית ריכוך ואפיית קשה נשמרים יציבים, אצווה אחרי אצווה. העיצוב מתאים לחדר נקי בדרגה 1–100, תוך שימוש בחומרים עם פליטה נמוכה וגימור משטח שמפחית יצירת חלקיקים למינימום האפשרי. בקרת עלייה בטמפרטורה היא חוזרת וניתנת לשחזור, כך שהמתכון זהה מביא להתנהגות נגד זהה בכל פעם. המערכת תוכננה לחיי ייצור רציפים 24/7 — רכיבים המדורגים לעמידות במתח תרמי מחזורי גבוה, ואזור חם שעמיד לניקוי רטוב חוזר ללא אובדן כיול.</p>