Dans la salle de traitement, la chambre de stripping reste inactive jusqu’à ce que la température souhaitée soit atteinte. Si le chauffage de soutien commence à dévier de sa valeur cible, des résidus se forment, et la prochaine couche ne s’attache pas correctement. Il est donc nécessaire d’avoir un contrôle thermique fiable, afin de maintenir la température désirée, étape après étape, lot après lot.
Ce qui est vraiment important Nous avons conçu le chauffage de soutien pour le stripping du photorésiste en utilisant des émetteurs à rayonnement infrarouge à courte longueur d’onde. Ces émetteurs réagissent rapidement, ce qui permet de garder un contrôle précis sur la température. L’uniformité de température atteint ±0,1°C au niveau de la wafer, ce qui garantit que les paramètres de cuisson restent conformes à celles prévues, quel que soit le positionnement de la wafer dans la chambre. Ce dispositif fonctionne dans des salles propres de classe 1–100. Nous vérifions également qu’il n’y a pas de particules générées, grâce à un système de surveillance en temps réel. En conditions réelles, ce dispositif fonctionne sans interruption, 24/7, avec une durée de fonctionnement supérieure à 5 000 heures, et une déviation de température inférieure à 5 %. Les spécifications incluent une alimentation en 208–240 V, une taille compacte qui convient aux installations existantes, ainsi que des interfaces standards entre le quartz et la chambre de traitement.
Pourquoi c’est important dans le processus de traitement Le stripping du photorésiste est essentiellement un processus thermique. Lorsque le chauffage se stabilise rapidement, le temps d’inactivité entre les différentes étapes de traitement est réduit, ce qui permet d’éviter de jeter des wafer qui n’ont pas été correctement traités. Une uniformité de température précise permet de maintenir un contrôle optimal des dimensions critiques après la lithographie. De plus, cela permet d’obtenir des résultats répétables, ce qui réduit l’utilisation de produits chimiques. Les avantages sont un temps de traitement prévisible, moins de produits à retraiter, et des économies d’énergie grâce à des temps de treatment plus courts.
Ce sur quoi il faut faire attention lors de l’installation Assurez-vous que les bords de la chambre correspondent bien entre eux, et que l’alignement des émetteurs est parfait par rapport au chemin parcouru par la wafer. Les émetteurs à rayonnement infrarouge à courte longueur d’onde chauffent rapidement, mais cette zone chaude doit être correctement protégée, afin de ne pas endommager les joints en polymère. Lorsque vous changez de recette, planifiez une petite période de calibration, et vérifiez que le dispositif est compatible avec les normes de la salle propre, en tenant compte de votre méthode de comptage des particules. Nous envoyons à l’avance des plans d’interface afin d’éviter tout risque d’intégration problématique.