Sur le chantier de fabrication, la fiabilité des capteurs biomédicaux dépend entièrement de la répétabilité thermique. Une variation de 30 °C pendant le processus de cuisson du photorésiste peut perturber le contrôle de l’épaisseur des lignes, tandis que la formation de particules lors de cette cuisson peut entraîner une baisse drastique du rendement de production. Nous avons donc conçu un système à lampes infrarouges pour éliminer ces incertitudes.
Ce qui est vraiment important Nous utilisons des émetteurs à ondes courtes dans le domaine du NIR, associés à des optiques en quartz. Cela permet à la chaleur d’être transmise directement au wafer, de manière rapide et propre, sans surchauffe. On obtient ainsi une uniformité au niveau du wafer de ±0,1 °C sur toute sa surface active. Ainsi, les processus de cuisson douce et de cuisson forte produisent toujours les mêmes résultats, lot après lot. L’appareil fonctionne 24/7, sans arrêts imprévus, et reste exempt de particules – ce qui le rend parfaitement compatible avec des salles propres de classe 1 à 100.
Pourquoi c’est idéal pour la fabrication de capteurs biomédicaux La fabrication de capteurs biomédicaux implique l’utilisation de couches minces et de structures fines qui sont susceptibles de subir des contraintes importantes. Le photorésiste peut également se déformer si la température de cuisson n’est pas stable. Nos lampes assurent une température de cuisson très précise, ce qui permet de maintenir une constance dans les procédés de lithographie et d’etchage. La variabilité de la largeur des lignes diminue, et la rugosité des bords des lignes s’améliore. La montée en température rapide réduit le temps de cycle, sans pour autant compromettre le contrôle qualité. De plus, l’efficacité énergétique permet de réduire le coût par wafer. En fin de compte, cela se traduit par un rendement plus élevé dès la première tentative de fabrication, ainsi que par moins de retouches nécessaires.
À surveiller La puissance émise par les lampes dépend de la distance entre l’émetteur et le wafer, ainsi que de la propreté de la fenêtre en quartz. Par conséquent, l’appareil nécessite une distance focale fixe et des vérifications régulières. L’intégration de l’appareil est simple, mais le profil thermique doit être adapté au photorésiste et au substrat utilisés. Il est donc nécessaire de réaliser des tests de qualification avant de passer à la production en série.