Calentador de soporte para pelado de fotoresista

Thu, 02 Jul 2026 08:05:37 +0800

En la planta de producción, la cámara de extracción de fotopolímero permanece inactiva hasta que alcanza la temperatura adecuada. Si el calentador de soporte comienza a funcionar de manera irregular, se quedan residuos en la superficie del wafer, y la siguiente capa de fotopolímero no se adhiere como debería. Es necesario contar con un sistema de control térmico que mantenga la temperatura estable, batch tras batch.

Lo que realmente importa Diseñamos el calentador de soporte para la extracción de fotopolímero utilizando emisores de cuarzo de onda corta infrarroja (SWIR). Estos emisores responden rápidamente, lo que permite mantener un control preciso de la temperatura. La unidad logra una uniformidad de ±0.1°C a nivel del wafer, lo que garantiza que los procesos de secado tengan resultados consistentes en todo el conjunto de wafers. Funciona en salas limpias de clase 1-100, y verificamos que no haya generación de partículas mediante monitoreo en tiempo real. En condiciones reales, funciona 24/7, con una vida útil de más de 5,000 horas y una desviación de menos del 5% en su rendimiento. Las especificaciones incluyen una tensión de entrada de 208–240 V, un tamaño compacto que facilita su instalación en equipos existentes, e interfaces estándar entre el cuarzo y la cámara.

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