Veeco MOCVD Heizlampe

Mon, 29 Jun 2026 06:34:40 +0800

In der Fertigungsstätte ist die thermische Schwankung während des Weich- und Hartbrennvorgangs eine Variable, die dazu führt, dass die Profile des Photoresists völlig unvorhersehbar werden. Schon eine Abweichung von 2 °C kann dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen nicht mehr möglich ist – anschließend leidet auch der Ätzungsvorgang unter diesen Auswirkungen. Wir haben den Veeco MOCVD-Heizstrahler entwickelt, um diese Unsicherheiten auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist
Der Heizstrahler verwendet Halogenelemente mit kurzwelligem Infrarotlicht innerhalb einer Quarzkapsel. Dadurch wird eine schnelle, lokalisierte Erwärmung erreicht – bei einer Gleichmäßigkeit auf Waferniveau von ±0,1 °C. Der Heizstrahler hält seine Einstellwerte über den gesamten Brennvorgang hinweg konstant – vom Weichbrennen zur Entfernung von Lösungsmitteln bis zum Hartbrennen zur Sicherstellung der Haftung des Photoresists – ohne dabei die thermischen Grenzen zu überschreiten.

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