در کف کارخانه، مرحله پخت جایی است که شما بازده را به دست میآورید یا آن را از دست میدهید. نوسان ±2°C در طول پخت نرم یا پخت سخت موجب تغییر ابعاد بحرانی و شروع به ایجاد کثیفی میشود. نقطه سرد در سراسر ویفر به صورت پایه و زبری لبه خط ظاهر میشود. هیتر ویفر پرفروش 2026 برای حذف این تغییرپذیری از بودجه حرارتی طراحی شده است. آنچه از نظر فنی اهمیت دارد کنترل است. ما لامپهای هالوژن با موج کوتاه را در یک محفظه کوارتز-هالوژن اجرا میکنیم و از پیرویمتری حلقه بسته برای نگهداشتن یکنواختی در سطح ویفر در ±0.1°C در سراسر زیرلایههای 150–300 mm استفاده میکنیم. شیبهای دما در هر دسته بین 0.2°C تکرار میشوند و پایداری خیس نگهداشتن پروفایل فوتورزیست را در جایی که نیاز دارد حفظ میکند. بدنه هیتر برای اتاقهای تمیز کلاس 1–100 طراحی شده است. ما از مواد با انتشار کم گاز استفاده میکنیم و مسیر جریان هوا را کنترل شده نسبت به ذرات نگه میداریم. عدم تولید ذرات یک شعار نیست—این چیزی است که ما با شمارندههای ذرات در خط در حین تأیید، تأیید میکنیم. چرا این سیستم در کلاسترهای لیتوگرافی کار میکند، ساده است: این سیستم پردازش فوتورزیست را در محدوده مشخص نگه میدارد، بنابراین شما نیاز به کار مجدد را کاهش میدهید و بازده خط را بهبود میبخشید. در تأییدیههای چند نوبتی، سیستم بهصورت 24/7 با عدم توقف برنامهریزی نشده اجرا میشود و تکرارپذیری پروفایل حرارتی دورههای تأیید را کوتاه میکند. مصرف انرژی بهینهسازی شده است و فضای مورد نیاز به مسیرهای استاندارد بدون نیاز به کار مجدد منتقل میشود. بازده آن کنترل ابعاد بحرانی با ثبات، زباله کمتر و ظرفیتی است که میتوانید بر اساس آن برنامهریزی کنید. چند نکته عملی. نصب نیاز به یک مدار قدرت اختصاصی و مسیر خروجی تأیید شده دارد. آرایه لامپ حرارت تابشی شدیدی تولید میکند، بنابراین محافظت و قفلهای ایمنی باید دقیقاً طبق دفترچه راهنمای دستگاه انجام شود. هیتر با SECS/GEM برای جمعآوری دادهها سازگار است، اما یکپارچهسازی کامل دستورالعملها به نسخه کنترلر میزبان شما بستگی دارد. قبل از راهاندازی در خط، یک آزمایش یکپارچهسازی کوتاه انجام دهید.